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時間：2018-12-23

作者：東莞市永綠環保工程有限公司

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半導體制造行業廢氣處理工藝半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。揮發性**廢氣主要來源于光刻、顯影、刻蝕及擴散等工序，在這些工序中要用**溶液（如異丙醇）對晶片表面進行清洗，其揮發產生的廢氣是**廢氣的來源之一；同時，在光刻、刻蝕等過程中使用的光阻劑（光刻膠）中含有易揮發的**溶劑，如醋酸丁酯等，在晶片處理過程中也要揮發到大氣中，是**廢氣產生的又一來源。與半導體制造工藝相比，半導體
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