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詞條說明
常用的uv燈,工作在850-950攝氏度的**高溫條件下,因此在他的系統(tǒng)中不僅要用到抽氣裝置,較會給印刷廠的空調(diào)系統(tǒng)造成比較大的成本壓力。除此以外還有一個重要的問題就是燈泡的高更換頻率以及紫外光輸出量會相應(yīng)的隨使用時間推移,隨著燈泡的使用次數(shù)增加而減少,而且汞蒸氣弧光燈工作過程中還會產(chǎn)生大量的臭氧。這樣的弊端,導(dǎo)致UV光源系統(tǒng)要耗費大量的電力資源,與現(xiàn)在所要求的地能源高產(chǎn)出的環(huán)境要求相背離。高頻率較
無影膠又叫紫外線膠水,它必需是經(jīng)過紫外線映照到膠液的前提下才干固化,也就是無影膠中的光敏劑與接觸到紫外線會與單體相接合,理論上沒有紫外線光源的映照下無影膠簡直永遠不固化。紫外線的來源有自然日光和人造光源兩種。紫外線越強固化速度越快普通固化時間在10-60秒不等。關(guān)于自然日光而言,晴朗的天氣陽光中的紫外線會比擬強固化速度越快。但是,沒有激烈陽光時只能用人造紫外線光源了。人工紫外線光源的品種很多,功
據(jù)ASML公司透露,公司定于2012年開端正式推出的下一代正式量產(chǎn)用EUV光刻機型NXE:3300曾經(jīng)得到了10臺數(shù)量的訂單.這些訂單的客戶主要 是來自日本,韓國,閩臺以及美國地域的邏輯芯片/存儲芯片廠商。NXE:3300機型的成像才能,套刻精度以及晶圓產(chǎn)出量相比前代試量產(chǎn)型產(chǎn)品3100均 有改善,機型推出的目的是趕在各廠商推行22nm半代制程時被投入芯片的量產(chǎn)消費。 據(jù)ASML公司透露,其前代試
技術(shù)能夠在無需對現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片
按臺積電的說法,其透明式雙重成像技術(shù)能夠在*對現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片設(shè)計辦法停止變動的條件下將產(chǎn)品遷移到20nm節(jié)點。目前臺積電曾經(jīng)在與EDA軟件廠商討論如何將透明式雙重成像技術(shù)內(nèi)嵌到EDA廠商的商用設(shè)計軟件中去。 回想2009年初,臺積電曾表示其啟動20nm制程節(jié)點時EUV/電子束光刻等次世代光刻技術(shù)可能尚未成熟,因而屆時他們方案啟用193nm液浸式光刻機+雙重成像技術(shù)。當(dāng)時臺積電擔(dān)任光刻技術(shù)的高管林
公司名: 東莞市科普源光源設(shè)備有限公司
聯(lián)系人: 梁锃
電 話: 0769-33285899
手 機: 13790244044
微 信: 13790244044
地 址: 廣東東莞東城東莞市廣東省東莞市東城區(qū)立新犬眠嶺工業(yè)區(qū)15號
郵 編: 523000
網(wǎng) 址: fideikg.cn.b2b168.com
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