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漿液池的布置及漿液的攪拌:有兩種不同類型的漿液池可用于石灰石脫硫工藝中,既可以將漿液池與吸收塔簡(jiǎn)稱一體,也可以單獨(dú)建造一個(gè)漿液池。電廠脫硫系統(tǒng)供應(yīng)商現(xiàn)在都設(shè)計(jì)其底部有一個(gè)漿液池的吸收塔。如果設(shè)計(jì)的漿液池容積**過通常在吸收塔底部能布置的漿液池容積,那么就需要額外在建造一個(gè)單獨(dú)的漿液池。 無論采用那種漿液池,為防止?jié){液中的固體顆粒在漿液池底部沉積,必須對(duì)講野好詞進(jìn)行充分的攪拌。當(dāng)漿液池位于吸收塔底部
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厭氧處理方法對(duì)營養(yǎng)物的需求量小。一般認(rèn)為,若以可以生物降解的 COD(COD BD )為計(jì)算依據(jù),好氧處理方法中氮和磷的需求量比例為COD BD :N:P=100:5:1。研究表明,厭氧生物處理過程中約有20%CH4來自一酸的分解,其余少量則產(chǎn)自H2和CO2的合成。而厭氧處理方法為COD BD : N:P=(350~500):5:1。**廢棄物中一般含已有一定量 的氮和磷及多種微量元素,因此,厭
根據(jù)回轉(zhuǎn)窯窯尾煙氣性質(zhì),和國家現(xiàn)行的GB9078-1996 工業(yè)窯爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn),國內(nèi)外多采用布袋除塵器或靜電除塵器對(duì)窯尾的煙氣進(jìn)行治理?,F(xiàn)將回轉(zhuǎn)窯除塵器的要點(diǎn)簡(jiǎn)要介紹如下。 (1)濕法回轉(zhuǎn)窯 為了減少濕法回轉(zhuǎn)窯的粉塵飛損量,首先應(yīng)減少直接由窯內(nèi)帶出的粉塵量。故在濕法生產(chǎn)時(shí),根據(jù)具體條件可以采取以下有效的措施。 ①在熱工制度穩(wěn)定的條件下,窯內(nèi)氣流流速正常,所需的過??諝饬枯^小時(shí),所選擇鏈條
光催化氧化技術(shù)是在光化學(xué)氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。光化學(xué)氧化技術(shù)是在可見光或紫外光作用下使**污染物氧化降解的反應(yīng)過程。自然環(huán)境中的部分近紫外光(290~400nm )較易被**污染物吸收,在有活性物質(zhì)存在時(shí)即發(fā)生強(qiáng)烈的光化學(xué)反應(yīng),從而使**物降解。但由于反應(yīng)條件所限,光化學(xué)氧化降解往往不夠徹底,易產(chǎn)生多種芳香族**中間體,成為光化學(xué)氧化需要克服的問題。 自1976 年Carey 等首先采用T
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