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探測器 依分辨率高低檔次由低**常用的探測器有NaI晶體閃爍計數器,充氣(He,Ne,Ar,Kr,Xe等)正比計數管器、HgI2晶體的探測器、半導體致冷SiPIN探測器、高純硅晶體的探測器、高純鍺晶體的探測器、電致冷或著液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測器、Ge(Li)鋰漂移鍺探測器等。 目前常用的是電致冷或液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測器、SiPIN探測器、高純的硅晶體探測器。探測器
大氣(常壓)等離子表面處理設備的種類很多,根據不同應用環境和材料,通常采用不同放電機制的等離子體技術。大氣射頻等離子表面處理設備特點、用途大氣射頻等離子表面處理設備即單電極等離子體處理機所產生的低溫等離子體其離子和電子的能量可達7-10eV,可以處理聚丙烯(PP)、聚乙烯 (PE)、聚氯乙烯(PVC)、氧化丙烯橡膠聚烯烴PO、聚苯乙烯 (PS)、ABS、聚酯(PET、APET)、聚氨酯(PUL)、
UV固化,這里“UV”是紫外線的英文縮寫,固化是指物質從低分子轉變為高分子的過程。UV固化一般是指需要用紫外線固化的涂料(油漆)、膠粘劑(膠水)或其它灌封密封劑的固化條件或要求,其區別于加溫固化、膠聯劑(固化劑)固化、自然固化等。UV固化是通過一種單體/低聚物的混合物的快速聚合而獲得一種也可交聯的涂膜的一種技術。UV體系的這種快速聚合是用光引發劑和高性能的燈來實現的。UV固化爐就是通過一種單體/低
真空等離子清洗機整個清洗過程大致如下:1)被清洗的工件送入真空式并加以固定,啟動運行裝置,開始排氣,使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。2)向真空室內引入等離子清洗用的氣體,并保持腔內壓強穩定。根據清洗材質的不同,可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。3)在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發生等離子化和產
公司名: 深圳瑞程科技有限公司
聯系人: 張先生
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手 機: 19129541610
微 信: 19129541610
地 址: 廣東深圳坪山區深圳市坪山區龍田街道老坑社區坑梓錦繡中路18號齊心科技園3號
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網 址: zhang8929.b2b168.com
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