等離子處理機，清洗激活蝕刻

時間：2022-04-08

作者：煙臺金鷹科技有限公司

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詞條
詞條說明
玻璃蓋板鍍膜前等離子清洗機預處理
等離子清洗機AF鍍膜前處理，AF/AS溢鍍去除、油墨印刷、活化材料表面結構，去除靜電，灰塵油污、提高親水性、延長鍍膜、印刷的使用壽命等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合，
等離子清洗機，LCD柔性薄膜電路貼合
等離子清洗機依靠等離子體深入材料內部的微孔和凹陷處清洗，增強粘接，貼合、焊接、涂覆、邦定、除膠的效果，等離子清洗機去臟污，活化，主要用于多層硬板，軟性電路板，軟硬結合板去臟污，膠渣，激光鉆孔后孔內碳化物處理，聚四氟乙烯印制板孔金屬化前的孔壁活化，涂覆前的板面活化處理。LCD柔性薄膜電路貼合????電話、觸摸屏、筆記本電腦的顯示屏等產品的生產過程中顯示屏和柔性
等離子清洗機設備在集成電路和MEMS行業的應用
????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉化的媒介，當光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現此功能。它用射頻或微波方式產生等離子體，同時通入氧氣或其他氣體，等離子體與光刻膠進行反應，形成氣體被真空泵抽走等離子清
等離子清洗機，等離子去膠機工藝原理及使用
等離子清洗機，等離子去膠機工藝原理及使用 1) 等離子清洗機，等離子去膠機反應機理： ? ?在干法等離子去膠技術中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果，電離發生氧離子、游離態氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其間具有強氧化才能的游離態氧原子（約占 10-20%）在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響： O2→O*+ O*， CxHy + O