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光學元件等離子清洗去除表面有機污染物光學元件等離子體清洗機去除附著的有機污染物,恢復元件的光學性能和表面形貌,同時不能降低其抗污染性能。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合
等離子清洗機的激活鍵能,交聯作用:等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯結構,大大地激活了表面活性。等離子清洗機實現對材料表面進行激活、蝕刻、除污等工藝處理,以及對材料的摩擦因數、粘合和親水等各種表面性能進行改良的作用。等離子清洗機Plasma Clean
“洗表面“是等離子清洗機技術的關鍵,”洗表面“跟電漿機和等離子表面處理設備這兩個名字密切相聯。簡單的來說,等離子處理機清洗表面就是在被處理材料表面打出無數個肉眼看不到的小孔,記住是微小孔哦!同時又在表面形成一個新的氧化層薄膜。這樣一來大大增加了被處理材料的表面積,間接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸潤性、擴散性等等。而這些性能又恰當的應用在手機,電視,微電子,半導體,醫療,航空,汽車等各行各
等離子清洗機,等離子去膠機工藝原理及使用 1) 等離子清洗機,等離子去膠機反應機理: ? ?在干法等離子去膠技術中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果,電離發生氧離子、游離態氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體,其間具有強氧化才能的游離態氧原子 (約占 10-20%)在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響: O2→O*+ O*, CxHy + O
公司名: 煙臺金鷹科技有限公司
聯系人: 劉曉玲
電 話: 0535 -8236617
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地 址: 山東煙臺招遠市山東招遠高新開發區招金路518號
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網 址: ytjykj.cn.b2b168.com
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