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低場核磁共振技術研究國產cmp研磨液什么是cmp研磨液?CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing,即化學機械拋光。該技術是半導體晶圓制造的比備流程之一,對高精度、高性能晶圓制造至關重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調節劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液,所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的
低場核磁研究完荃相容共混物的玻璃化轉變溫度聚合物的相容性聚合物的相容性就是聚合物之間的相互溶解性,是指兩種聚合物形成均相體系的能力。大量的實際研究結果表明,不同聚合物對之間相互容納的能力,是有著很懸殊的差別的,某些聚合物對之間,可以具有及好的相容性,而另一些聚合物對之間則只有有限的相容性,還有一些聚合物對之間幾乎沒有相容性。由此,可按相容的程度劃分為完荃相容、部分相容和不相容。相應的聚合物對,可分
2024年國家自然科學基金【工程與材料學部】重點方向|紐邁低場核磁應用解決方案
2024年國家自然科學基金【工程與材料學部】重點方向|紐邁低場核磁應用解決方案1月11日,《2024年度國家自然科學基金項目指南》正式發布。據統計,2023年工程與材料科學部共接收重點項目申請814項,資助103項,資助直接費用23690萬元,直接費用平均資助強度為230萬元/項。2024年,工程與材料科學部擬在以下14個領域中資助重點項目110項左右,直接費用平均資助強度約為300萬元/項,資助
低場核磁法研究結晶高聚物的溶脹過程溶脹是指溶劑分子擴散進入高分子內部,使其體積膨脹的現象。溶脹行為是高分子材料的一項重要參數,高分子材料的平衡溶脹率會影響到材料中物質的擴散系數,表面潤濕性和機械強度等。很多研宄將溶脹特性作為一個設計參數來制備具有特殊應用的智能材料。溶脹是高分子材料特有的現象,其原因在于溶劑分子與高分子尺寸相差懸殊,分子運動速度相差很大,溶劑分子擴散速度較快,而高分子向溶劑中的擴散
公司名: 蘇州紐邁分析儀器股份有限公司
聯系人: 何經理
電 話: 15618037925
手 機: 18939912673
微 信: 18939912673
地 址: 江蘇蘇州江蘇省蘇州高新區科靈路78號蘇高新軟件園2號樓
郵 編:
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