探針臺精準控制關鍵技術研究

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設備有限公司瀏覽：122

鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

• 磁控濺射技術原理及應用簡介

  磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。傳統的濺射技術的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會受到電場和磁場的作用，產生漂移，因而導致傳濺射效率低，電

• 微電容單通道叉指電極真空探針臺用途介紹

  叉指微電極因其微小的電極間距結構，可用于各種小型化傳感器。對于傳統分析，包括色譜法、光譜法、質譜等方法，大多都需要昂貴的儀器和多種操作步驟，使得許多實際問題仍面臨困難。開發高靈敏度、、小型化的傳感器尤為重要。本文綜述了叉指微電極的研究進展，介紹了基于叉指微電極的傳感器在各領域的廣泛應用。?小型真空探針臺鄭科探?KT-Z4019MRL4T是一款性高價比配置的真空高低溫探針臺。高溫

• 磁控濺射沉積系統設計

  ?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機

• 真空探針臺優勢和適用于那些科研

  KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面，臺面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動，三個方向均可在真空環境下精密移位調節，其中X