中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

時(shí)間：2024-01-30作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：113

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

  1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果，但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒

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  1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：電感耦合等離子體是通過(guò)高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來(lái)傳遞能量的。在電感耦合的過(guò)程中，高頻電流通過(guò)螺線管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng)，高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好，能量傳遞，適用于高密度等離子體的產(chǎn)生，廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2. 電容耦合（Capaciti

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