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柱層析氧化鋁的選擇和使用方法柱層析柱層析氧化鋁是一種常用的層析介質,具有高純度、高活性和高比表面積等特點,適用于各種層析分離和純化實驗。柱層析氧化鋁填料的分離原理是物理吸附,即柱層析氧化鋁對不同極性物質的吸附能力不同,從而達到分離效果。?我公司層析用柱層析氧化鋁有堿性、中性和酸性三類,粒度規格大多為80-160目 100-200目 200-300目??。粒度大于80目
十八烷基硅烷鍵合硅膠薄層板產品介紹一、產品簡介十八烷基硅烷鍵合硅膠薄層板(Octadecylsilyl Silica Gel Thin Layer Plate,簡稱C18-TLC板)是一種基于高效反相薄層色譜(RP-TLC)技術的分離材料。該產品采用高純度硅膠作為基質,通過化學鍵合方式將十八烷基硅烷(C18)固定在硅膠表面,使其具備優異的疏水性和反相色譜分離能力。C18-TLC板廣泛應用于藥物分析
柱層析材料選擇:氧化鋁與硅膠應用選擇指南柱層析是化學和生物化學領域中一種重要的分離純化技術,氧化鋁和硅膠作為兩種較常用的固定相材料,各有其特點和適用場景。一、基本性質比較1. 化學組成與結構硅膠:無定形二氧化硅(SiO?·xH?O),表面含有硅羥基(-Si-OH)。氧化鋁:通常為γ-氧化鋁(Al?O?),表面具有路易斯酸和堿位點。2.?物理特性?二、吸附特性差異1. 硅膠的吸附
如何有效去除光電材料中的金屬離子光電材料在現代科技中扮演著至關重要的角色,廣泛應用于太陽能電池、LED、光電探測器等領域。然而,光電材料中的金屬離子雜質會顯著影響其性能,導致效率下降、壽命縮短等問題。因此,有效去除光電材料中的金屬離子是提高材料性能的關鍵步驟。一、光電材料中金屬離子的組成與含量光電材料中的金屬離子雜質主要來源于原材料、生產設備和工藝過程等。常見的金屬離子包括鐵(Fe)、銅(Cu)、
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