真空鍍膜技術及設備

時間：2022-04-09作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：395

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• 詞條

  詞條說明

• 卷繞真空鍍膜機的簡介與應用

  ? ? ??卷繞式真空鍍膜設備,包括設置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設置有與驅動電機輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動的送料輥輪對,送料輥輪對與鍍膜輥之間設置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對與張力釋放輥之間保持松弛狀態的輥輪；收卷裝置包括一主動的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設置有送料輥輪對,該送料輥輪對與收卷輥之

• 電鍍和真空鍍的區別

  ????電鍍和真空鍍的區別有哪些？接下來讓我們一起來了解一下，較方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積

• 磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 多弧離子真空鍍膜技術特點

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者**結合起來， 不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜 附著力 強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產生由高度電離的蒸發物質文化組成的等離子體，其中離子之間