PVD涂層對工件表面的要求

時間：2022-05-14作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：257

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• 詞條

  詞條說明

• 磁控濺射鍍膜設備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二，四級濺射的主要不同點；一是，在濺射的陰極靶后面設置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產生水平分量的磁場或垂直分量的磁場，由氣體放電產生的電子被束縛在靶面附近的等離子區內的特定軌道內運轉；受電場力和磁場力的復合作用，沿一定的跑道作旋轉輪轉圈。? ? ? ?

• 立式濺射鍍膜設備的優勢及應用行業

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現綠色環保生產。其中之一的汽車行業 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• 磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其