廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收

時間：2025-09-02作者：那諾-馬斯特中國有限公司瀏覽：260

那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統,刻蝕系統,清洗去膠系統等

• 詞條

  詞條說明

• 福州大學離子束刻蝕機順利驗收

  烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設備安裝調試服務。首站福州大學，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機！性能配置：離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質，z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V。刻蝕速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內均勻性**±

• 詳解磁控濺射技術

  一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使氬氣發生電離（在高壓作用下Ar

• 廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收

  廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收近日，NANO-MASTER工程師至廣西師范大學，順利安裝驗收NRE-3000型RIE反應離子刻蝕系統！詳細參數：1.? 腔體：10”直徑的圓柱形腔體；陽極氧化鋁材質，抗腐蝕性強；上下蓋設計，氣動升降頂蓋，一鍵實現上蓋的開啟/閉合；淋浴頭設計，較佳的氣流均勻分布2. 樣品臺：4”樣品臺；冷卻功能；偏壓功能，支持各向異性的垂直刻蝕；3. 質量流量控制

• *遠程微波PECVD系統

  Nano-Master的遠程微波等離子體化學氣相沉積（PECVD）系統應用范圍廣泛，包含：基片或粉體的等離子誘導表面改性等離子清洗粉體或顆粒表面等離子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的選擇性生長單晶或多晶金剛石生長???微波模塊：NANO-MASTER高質量**命遠程微波源，頻率為2.45GH，微波**功率可以自主調節，微波反射功率可通過調節降