上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用

時間：2024-01-11作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：103

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  詞條說明

• HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室 

• HVA 真空閥門應用于E-Beam鍍膜機

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:&nb

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

  硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉換效率低和由 S-W 效應引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導率、較高載流子遷移的電學性質及優良的光學穩定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應的尾氣處理裝置, 有利于降低設備成本, 且工藝參數控制, 因此經過