美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
HVA 矩形閥 Load-lock 典型應用
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 矩形閥?Load-lock 典型應用上海伯東某生產原生多晶矽料生產設備, 矽片加工設備, 晶體矽電池生產設備企業, 使用美國?HVA 矩形閥用于真空機臺的 Load-lock工位, HVA 矩形閥安裝在 2X18 英寸規格內的矽片生產線上, 起到輔助傳遞矽片, 隔離真空腔室的作用.矽片比較薄, 一般
KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜
?? 舞臺燈光雖然呈現是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學濾光片,?對光進行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產生不同顏色.?而在光學元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質膜
HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機
國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:?-?閥門主體?304&