4N高純氧化鋁在半導(dǎo)體CMP拋光液中的應(yīng)用

時間：2025-07-16作者：山東嘉晨新材料技術(shù)有限公司瀏覽：12

山東嘉晨新材料技術(shù)有限公司專注于4N高純氧化鋁粉,氧化鋁連續(xù)纖維及制品,高性能氧化鋁溶膠等

• 詞條

  詞條說明

• 4N高純氧化鋁在半導(dǎo)體CMP拋光液中的應(yīng)用

  高純氧化鋁磨料在半導(dǎo)體化學(xué)機械拋光（CMP）中扮演著關(guān)鍵角色，主要用于實現(xiàn)晶圓表面的平坦化123。以下是其具體應(yīng)用：優(yōu)勢硬度高：對硬度較大的襯底材料（如藍寶石、碳化硅）具有優(yōu)良的去除速率，滿足半導(dǎo)體材料的高硬度拋光需求34。性能穩(wěn)定：不溶于水，不與酸堿反應(yīng)，確保拋光過程穩(wěn)定，減少設(shè)備腐蝕35。粒度可控：納米級氧化鋁顆粒可實現(xiàn)原子級平整度，滿足**半導(dǎo)體制造要求12。發(fā)展趨勢技術(shù)突破：國內(nèi)正努力突破