EDI純水設(shè)備適用范圍

時間：2024-12-04作者：山東洰騰環(huán)保設(shè)備有限公司瀏覽：92

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  詞條說明

• 實驗室超純水機設(shè)備

  實驗室超純水機設(shè)備一、工作原理預處理階段過濾雜質(zhì)：實驗室超純水機通常先通過機械過濾來去除水中的大顆粒懸浮物，如泥沙、鐵銹等。一般采用石英砂過濾器或 PP 棉濾芯，當水通過這些過濾介質(zhì)時，大顆粒雜質(zhì)被攔截在濾芯表面，使水初步得到凈化。例如，PP 棉濾芯的孔徑可以達到 1 - 5 微米，能夠有效阻擋水中的可見雜質(zhì)。軟化水質(zhì)：接著是軟化過程，主要是去除水中的鈣、鎂等離子，降低水的硬度。這一過程通常使用離

• 實驗室超純水機設(shè)備的反滲透膜多久更換一次？

  實驗室超純水機設(shè)備中反滲透膜的更換周期并不是固定的，通常受到以下多種因素的影響：原水水質(zhì)硬度：若原水硬度高，含有大量鈣、鎂等離子，易在反滲透膜表面形成水垢，降低膜通量和分離性能。如以硬度較高的地下水為原水，反滲透膜可能 1-2 年就需更換，具體取決于鈣、鎂離子濃度和設(shè)備預處理情況4.有機物含量：原水中有機物含量高會污染反滲透膜，其可能吸附在膜表面堵塞微孔，或與其他物質(zhì)反應(yīng)形成凝膠層。若以含有較多腐

• EDI純水設(shè)備適用范圍

  電子工業(yè)領(lǐng)域半導體制造：在半導體芯片的生產(chǎn)過程中，幾乎每一個環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗，到光刻、蝕刻等工藝，都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水（電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上）可以有效地避免水中的離子、有機物和微生物對芯片制造過程產(chǎn)生影響，確保芯片的性能和質(zhì)量。例如，在光刻工藝中，哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導致芯片線路出現(xiàn)缺陷，而 EDI 純水能夠為光刻膠的

• 軟化水設(shè)備作用

  防止水垢形成水垢產(chǎn)生原理：水中含有鈣、鎂等離子，在加熱或與其他物質(zhì)接觸過程中，這些離子會結(jié)合形成碳酸鈣（CaCO?）、碳酸鎂（MgCO?）、氫氧化鎂（Mg (OH)?）等沉淀物，這就是水垢。例如，在熱水鍋爐中，當水被加熱時，水中的鈣、鎂離子會在鍋爐內(nèi)壁逐漸沉積，形成堅硬的水垢。水垢的導熱性很差，會降低熱傳遞效率。據(jù)統(tǒng)計，水垢厚度達到 1 - 2 毫米時，燃料消耗會增加 5 - 8%。軟化水設(shè)備工作