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PVD真空電鍍加工K金膜層具有成膜速度高、膜層粘附性力好、牢固力強的特點,廣泛應用于各種行業。深圳森豐真空電鍍廠家采用磁控濺射鍍膜工藝,主要電鍍不銹鋼首飾、鐘表帶、餐具、箱包配件等五金配件。 我們使用真金靶材,通常被稱為真金電鍍。這種貴金屬膜價格稍高,一般用于珠寶、電子數碼、手表等行業。PVD真空電鍍膜層穩定性高,顏色均勻,耐腐蝕性好,能給產品帶來較好的效果。 有些電鍍工藝屬于化學電鍍工藝,會嚴
五金真空鍍膜常見到的有真空蒸發鍍膜、離子鍍膜、磁控濺射鍍膜。真空蒸發鍍膜就是在真空室中加熱蒸發容器中的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸汽流,入射到待鍍產品表面,凝結形成固態薄膜的方法。另一種是離子鍍膜,蒸發源的加熱和蒸發鍍膜相同。由于系統為等離子狀態,使金屬離子在產品表面吸附成膜,金屬離子具有高能量,鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等還有一種磁控濺射鍍膜,給靶材施加高電壓(形成等離子
磁控濺射真空鍍膜膜層不均的因素有哪些?影響膜層的主要因素有:真空狀態、磁場、氬氣。真空狀態需要由抽氣系統控制,每個出口應同時啟動,并具有相同的強度,以控制抽氣的均勻性。如果抽氣不均勻,真空室內的壓力就會不均勻,壓力對離子的運動就有一定的影響。此外,還應控制抽氣時間。過短會導致真空度不足,但過長會浪費資源。因為真空計的存在,控制好是沒有問題的。磁場是正交的,但不可能達到**均勻的磁場強度。一般磁
? ? ? 真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發涂層技術的區別? ? ??真空磁控濺射涂層技術不同于真空蒸發涂層技術。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面(目標),使固體原子或分子從表面射出的現象。大多數粒子是原子狀態,通常稱為濺射原子。用于轟擊目標的濺射顆粒可以是電子、離子或中性顆粒,因為離子很容易加速電場下所需的動能,所以大多數都使用離子
公司名: 深圳森豐真空鍍膜有限公司
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