PVD直空鍍膜后處理之—AF防指紋

時(shí)間：2022-04-20作者：深圳森豐真空鍍膜有限公司瀏覽：485

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  ? ? ? 真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別? ? ??真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。大多數(shù)粒子是原子狀態(tài)，通常稱(chēng)為濺射原子。用于轟擊目標(biāo)的濺射顆?？梢允请娮印㈦x子或中性顆粒，因?yàn)殡x子很容易加速電場(chǎng)下所需的動(dòng)能，所以大多數(shù)都使用離子

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