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宿州電信電纜高****價哪里有賣 PCVD法沉積溫度低,膜基結合力及工藝繞鍍性均較PVD法有較大改進,但與擴散法相比,膜基結合力仍有較大差距,此外由于PCVD法仍為等離子體成膜,雖然繞鍍性較PVD法有所改善,但無法消除。由擴散法金屬碳化物覆層技術形成的金屬碳化物覆層,與基體形成冶金結合,具有PVPCVD無法比擬的膜基結合力,因此該技術真正能夠發揮超硬膜層的性能優勢,此外,該技術不存在繞鍍性問題,后
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