詞條
詞條說明
銅銦合金靶材:薄膜制備的關鍵材料 銅銦合金靶材是制備薄膜材料的重要原料,廣泛應用于太陽能電池、顯示面板等領域。這種合金靶材通過磁控濺射或蒸發鍍膜等工藝,在基材表面形成均勻的薄膜,直接影響最終產品的性能。 銅銦合金靶材的關鍵優勢在于其成分可調,通過調整銅和銦的比例,可以優化薄膜的導電性、光學性能和穩定性。例如,在銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池中,銅銦合金靶材的配比直接影響光電轉換效率。此外,銦元素的
氧化銅靶材:半導體制造中的關鍵材料 氧化銅靶材是一種廣泛應用于半導體、光伏和顯示行業的高純度材料,主要用于物理氣相沉積(PVD)工藝。它的核心作用是在基板上形成均勻的薄膜,直接影響器件的導電性能和穩定性。 高純度與均勻性 氧化銅靶材的純度通常要求達到99.99%以上,以確保沉積薄膜的電學性能穩定。任何微量雜質都可能影響薄膜的電阻率和均勻性,因此生產工藝需嚴格控制。在濺射過程中,靶材的密度和微觀結
三氧化二釔靶材:現代科技中的關鍵材料三氧化二釔靶材作為一種特殊的功能材料,在多個高科技領域扮演著不可或缺的角色。這種白色粉末狀物質經過特殊工藝處理后形成的靶材,具有獨特的物理化學性質,使其成為薄膜沉積技術中的明星材料。 性能優勢與應用領域三氧化二釔靶材最顯著的特點是它的高熔點,達到2410℃,這一特性使其在高溫環境下仍能保持穩定。同時,它具備優異的化學穩定性,耐腐蝕性強,不易與大多數化學物質發生
一氧化硅靶材:半導體制造中的關鍵材料在半導體和光電材料領域,一氧化硅靶材扮演著不可或缺的角色。這種特殊材料通過物理氣相沉積技術,能夠制備出性能優異的功能薄膜,廣泛應用于微電子、光學鍍膜和太陽能電池等行業。一氧化硅靶材的制備工藝極為講究,通常采用高純度硅粉和二氧化硅為原料,在特定條件下通過高溫反應合成。制備過程中需要嚴格控制氧分壓和溫度參數,以確保產物化學計量比的精確性。高質量的靶材要求具有高純度
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯系人: 肖先生
電 話: 0769-88039551
手 機: 18681059472
微 信: 18681059472
地 址: 廣東東莞東莞市南城區民間金融大廈
郵 編: