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碳化硅靶材:半導體行業的新寵 碳化硅靶材在半導體制造中扮演著重要角色,其獨特的性能使其成為高端芯片和功率器件的關鍵材料。相比傳統硅基材料,碳化硅具有更高的熱導率、更強的耐高溫能力以及更優異的化學穩定性,因此在高溫、高頻、高功率電子設備中表現突出。 碳化硅靶材的制備工藝復雜,通常采用化學氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)技術,以確保高純度和均勻性。其中,CVD法制備的碳化硅靶材純度高、結晶性
透明導電材料的未來:氧化銦鋅靶材的崛起在光電顯示領域,透明導電材料正經歷一場靜默革命。氧化銦鋅靶材憑借獨特性能優勢,逐漸成為行業新寵。這種新型半導體材料由氧化銦和氧化鋅按特定比例復合而成,在可見光區透光率超過85%,同時具備優良的導電性能,電阻率可低至10^-4Ω·cm量級。制備工藝直接影響氧化銦鋅靶材的最終性能。目前主流采用高溫固相反應法,通過精確控制燒結溫度和時間,確保材料致密度達到99%以
茂名三氧化鋁靶材作為生產高屬材料、蒸發鍍膜材料和濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們自豪地推出的三氧化鋁靶材。三氧化鋁靶材是一種高純度、高密度的陶瓷材料,在微電子工業、精密光學和表面工程等領域扮演著重要的角色。在微電子工業中,三氧化鋁靶材以其高純度和高密度的特性,被廣泛用于制造高質量的薄膜和電子器件。通過濺射技術,三氧化鋁靶材可以將材料沉積在基片上,形成具有特定功能的薄膜,為微電子器件提供
茂名三氧化鋁靶材廠是一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。公司擁有多名中**技術人員和化應用實驗室,致力于研發和生產高質量的材料,其中包括備受矚目的三氧化鋁靶材。三氧化鋁靶材是一種高純度、高密度的陶瓷材料,具有出色的穩定性和耐高溫環境的特性。在微電子工業、精密光學和表面工程等領域,三氧化鋁靶材扮演著至關重要的角色。茂名三氧化鋁靶材廠致力于生產符合高標準的三氧化鋁
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