鋁稀土合金靶材

時間：2025-05-20

作者：東莞市鼎偉新材料有限公司

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詞條
詞條說明
高純鉻靶的發展前景
高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，目標材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。對于相同組成的靶材，細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快，而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔，但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。孔的存在會在濺射過程中引起異常放電，從而產生雜質顆粒。此外，由于其密度低，在
氮化鈦靶材專注12年生產研發廠家
東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高純金屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發材料專業為技術依托，擁有多名中高級專業技術人員和專業化應用實驗室，具有很強的蒸發材料開發能力。公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶好評。
鈦酸鋇靶材
鈦酸鋇靶材：電子元器件制造的關鍵材料鈦酸鋇靶材在現代電子工業中占據著不可替代的地位，這種功能陶瓷材料因其獨特的電學性能而備受關注。作為制備薄膜的關鍵原料，鈦酸鋇靶材的質量直接影響著最終電子元器件的性能表現。鈦酸鋇最顯著的特性在于其優異的介電性能，特別是在居里溫度附近表現出極高的介電常數。這種特性使其成為制造多層陶瓷電容器（MLCC）的理想材料，而MLCC正是現代電子設備中用量最大的被動元件之一。
二氧化鈦靶材
二氧化鈦靶材：光電領域的核心材料二氧化鈦靶材作為一種重要的功能材料，在光電領域扮演著關鍵角色。這種材料以高純度二氧化鈦為主要成分，通過特殊工藝制備成可用于濺射鍍膜的靶材形態。其獨特的物理化學性質使其成為制造光學薄膜、光催化涂層和光伏器件的理想選擇。在制備工藝方面，二氧化鈦靶材的生產過程極為精密。原料首先需要經過嚴格提純，確保純度達到99.9%以上。隨后通過高溫燒結工藝，使粉末顆粒間形成牢固結合，