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鋁硅合金靶材:現代鍍膜工藝的關鍵材料 鋁硅合金靶材是真空鍍膜領域的重要材料,廣泛應用于半導體、光伏、顯示面板等行業。其獨特的性能使其成為濺射鍍膜工藝中的理想選擇,能夠制備出高質量的薄膜涂層。 鋁硅合金靶材的關鍵優勢在于其優異的導電性和熱穩定性。鋁本身具有良好的導電性,而硅的加入進一步提升了合金的耐高溫性能,使其在濺射過程中不易變形或開裂。這種合金靶材在鍍膜時能夠形成均勻、致密的薄膜,尤其適合需要
二硼化鈦靶材:高科技領域的"隱形冠軍"二硼化鈦靶材憑借其超高硬度和優異的導電性能,成為現代工業領域不可或缺的關鍵材料。這種陶瓷靶材的維氏硬度高達30GPa以上,僅次于金剛石和立方氮化硼,在極端環境下仍能保持穩定的物理特性。在薄膜制備領域,二硼化鈦靶材展現出獨特優勢。通過磁控濺射工藝,它能制備出兼具高硬度和良好導電性的功能薄膜。這種薄膜的電阻率可低至10-6Ω·cm量級,硬度達到30GPa,既滿足
深圳三氧化鋁靶材批發價格三氧化鋁靶材是一種高純度、高密度的陶瓷材料,具有出色的穩定性和承受端熱環境的能力。在微電子工業、精密光學和表面工程等領域,三氧化鋁靶材扮演著的角色。深圳三氧化鋁靶材批發價格優惠,為客戶提供高質量的產品,助力各行業的發展。三氧化鋁靶材在微電子工業中的應用不可忽視。由于其高純度和高密度,三氧化鋁靶材可用于制造高質量的薄膜和電子器件。在薄膜制備過程中,通過濺射技術將三氧化鋁靶材材
鈦酸鑭靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料鈦酸鑭靶材作為一種新型功能陶瓷材料,在薄膜制備領域展現出獨特優勢。這種靶材主要由氧化鈦和氧化鑭按特定比例混合燒結而成,其晶體結構穩定,化學性質優良,成為濺射鍍膜工藝中的重要材料選擇。鈦酸鑭靶材最顯著的特點是具有較高的介電常數和較低的介電損耗。這一特性使其在制備高k介質薄膜時表現突出,能夠有效提升集成電路的性能。同時,該材料還表現出良好的熱穩定性和化學穩定性,在
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