真空鍍膜設(shè)備價(jià)格

時(shí)間：2021-10-26作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：174

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個(gè)運(yùn)行模式的二級(jí)濺射。它與二，四級(jí)濺射的主要不同點(diǎn)；一是，在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場(chǎng)或垂直分量的磁場(chǎng)，由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)；受電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的復(fù)合作用，沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見(jiàn)的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)： 1、沉積速度快、基材溫升低、對(duì)膜層的損傷小； 2、對(duì)于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實(shí)現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點(diǎn)

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來(lái)， 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過(guò)產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體，其中離子之間

• 電鍍和真空鍍的區(qū)別

  ????電鍍和真空鍍的區(qū)別有哪些？接下來(lái)讓我們一起來(lái)了解一下，更方便我們猶豫選擇電鍍還是真空鍍的時(shí)候能做出正確的判斷。一、原理上的不同1、電鍍：是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過(guò)程，是利用電解作用使金屬或其他材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝。電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積