真空鍍膜機(jī)哪個(gè)好

時(shí)間：2022-02-25作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：202

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個(gè)運(yùn)行模式的二級(jí)濺射。它與二，四級(jí)濺射的主要不同點(diǎn)；一是，在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場(chǎng)或垂直分量的磁場(chǎng)，由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)；受電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的復(fù)合作用，沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?

• 立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用行業(yè)

  立式濺射鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)： 1、在真空條件下制備鍍膜環(huán)境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強(qiáng)度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過(guò)程中不產(chǎn)生廢液，減少環(huán)境污染，減少對(duì)人體有害的金屬物體，較大程度上實(shí)現(xiàn)綠色環(huán)保生產(chǎn)。其中之一的汽車行業(yè) 該設(shè)備的設(shè)計(jì)為立式雙門的結(jié)構(gòu)，是一款直流磁

• PVD涂層對(duì)工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過(guò)的表面、用磨刀石磨過(guò)的表面、拋光的表面或用磨盤(pán)磨過(guò)的表面必須沒(méi)有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無(wú)毛刺，以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM（

• 真空鍍膜機(jī)哪個(gè)好

  真空鍍膜機(jī)的種類繁多，接下來(lái)我們來(lái)拿磁控濺射鍍膜機(jī)來(lái)舉一下例子：該設(shè)備集控磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整；膜層均勻性優(yōu)越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍的制的膜層具有附著力強(qiáng)，致密性高的優(yōu)點(diǎn)，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性，耐磨性及產(chǎn)品表面