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電子工業領域半導體制造:在半導體芯片的生產過程中,幾乎每一個環節都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質。EDI 純水設備所生產的高純度水(電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機物和微生物對芯片制造過程產生影響,確保芯片的性能和質量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質也可能導致芯片線路出現缺陷,而 EDI 純水能夠為光刻膠的
10 噸反滲透設備一、設備概述10 噸反滲透設備是一種能夠每日生產 10 噸純水的水處理裝置。它主要基于反滲透技術,通過對原水施加一定壓力,使水通過半透膜,從而去除水中的雜質、鹽分、有機物和微生物等,生產出高質量的純水。這種設備廣泛應用于電子、制藥、化工、食品飲料、電力等眾多行業,以及對水質要求較高的場所,如實驗室、醫院等。二、工作原理反滲透原理反滲透膜是 10 噸反滲透設備的核心部件,其孔徑非常
EDI 純水設備一、工作原理離子交換樹脂的作用EDI(Electrodeionization)純水設備主要基于離子交換樹脂來去除水中的離子。離子交換樹脂分為陽離子交換樹脂和陰離子交換樹脂。陽離子交換樹脂帶有酸性基團,能夠吸附水中的陽離子,如鈣(Ca2?)、鎂(Mg2?)、鈉(Na?)等,并將氫離子(H?)釋放到水中。例如,當含有鈣、鎂離子的水通過陽離子交換樹脂時,樹脂上的氫離子會與水中的鈣、鎂離子
產水量下降原因分析反滲透膜污染:這是產水量下降最常見的原因之一。水中的雜質,如有機物、膠體、微生物等,會在反滲透膜表面形成污垢層,堵塞膜的微孔,從而減少水的透過量。例如,當原水中含有較多的腐殖質時,這些有機物會吸附在膜表面,隨著時間的推移逐漸積累,導致產水量降低。進水壓力不足:高壓泵是為原水通過反滲透膜提供壓力的關鍵設備。如果高壓泵出現故障,如葉輪磨損、密封不嚴等,會導致進水壓力下降,水無法以足夠
公司名: 山東洰騰環保設備有限公司
聯系人: 張經理
電 話:
手 機: 15589251889
微 信: 15589251889
地 址: 山東棗莊滕州市山東省滕州市學院路1668號
郵 編:
網 址: tzhuitong.b2b168.com
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