KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

詞條
詞條說明
HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統
激光是一種很奇妙的?”物質”,?是人類繼原子能、計算機和半導體之后人類的又一偉大發現.人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因
上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中
因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空插板閥在半導體管道中的應用半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統 ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環節,
振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用|上海伯東代理英國進口Nano
振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用上海伯東代理英國 NanoMagnetics 儀器振動樣品磁強計 VSM 主要用于測量塊狀, 粉末, 薄片, 單晶和液體各種材料的測量. 振動樣品磁強計 VSM 可完成磁滯回線, 起始磁化曲線, 退磁曲線及溫度特性曲線, IRM 和 DCD 等曲線的測量. 搭配不同的高低溫選件可進行磁化數據的溫度函數的測量, 測定居里溫度點等. 上海伯東代理英國 Nano
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用
上海伯東某客戶在熱蒸發鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3