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詞條說(shuō)明
化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)??捎糜诳茖W(xué)研究、實(shí)踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)1、小型化,方便實(shí)驗(yàn)室操作和使用,大幅降低實(shí)驗(yàn)成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片?;胖梅绞剑号渲萌N基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類(lèi)型:不規(guī)則形狀的散片、φ2~4
重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項(xiàng)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)!
近日,經(jīng)*人民共和國(guó)國(guó)家**審核,根據(jù)《zhrnghg計(jì)算機(jī)軟件保護(hù)條例》和《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定,“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司”獲3項(xiàng)《zhrnghg國(guó)家**計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書(shū)》,分別是:《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起,該3
在xian jin封裝領(lǐng)域中,無(wú)論是2.5D封裝中的interposer 還是3D封裝中都要用到TSV,但是zui近很多人都聽(tīng)說(shuō)玻璃通孔(Through Glass Via,TGV)這個(gè)詞。玻璃通孔(TGV)潛能ju da,未來(lái)可能將是xian jin封裝技術(shù)中的???。本文將簡(jiǎn)要描述玻璃通孔(TGV)在xian jin封裝的應(yīng)用及發(fā)展趨勢(shì)以及工藝簡(jiǎn)介。玻璃基板是下一代芯片基板,he xin材料由玻
一、PVD真空鍍膜設(shè)備市場(chǎng)概況高真空電子束蒸鍍機(jī)-鵬城半導(dǎo)體2024年,**PVD真空鍍膜設(shè)備行業(yè)的總規(guī)模約為22億美元,而且預(yù)計(jì)到2024年,這一數(shù)字將會(huì)翻倍,達(dá)到47億美元。PVD真空鍍膜技術(shù)由非金屬物質(zhì)以真空溫度和帶電離子碰撞技術(shù),形成厚膜,具有聚合度高、粘著力強(qiáng)、透明度高及耐腐蝕性好等優(yōu)點(diǎn)。PVD真空鍍膜設(shè)備可廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)療、汽車(chē)、航空航天、航空航空電子等領(lǐng)域,以及金屬表面處理、無(wú)損
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
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供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 小型 PC08 化學(xué)氣相沉積小型LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 PC07 化學(xué)氣相沉積LPCVD設(shè)備
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空 PC06 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 金剛石散熱晶圓片 襯底
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 生產(chǎn)型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復(fù)合鍍膜機(jī)
生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)
供應(yīng) 鵬城半導(dǎo)體 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
公司名: 鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
聯(lián)系人: 戴朝蘭
手 機(jī): 13632750017
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