化學(xué)氣相沉積設(shè)備（CVD）-小型管式LPCVD設(shè)備

時間：2022-04-11作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：761

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

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• 叮~鵬城半導(dǎo)體向您發(fā)來一封會議邀請函

  2023年*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場研討會由半導(dǎo)體在線主辦，本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場研討會提供協(xié)同創(chuàng)新的高質(zhì)量交流平臺，推動國內(nèi)三代半導(dǎo)體材料的學(xué)術(shù)研究、技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，展示業(yè)內(nèi)精英企業(yè)，凝聚行業(yè)發(fā)展共識。在此次會議，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導(dǎo)體）將帶來納米技術(shù)及高端制造設(shè)備跟大家見面，其中包括

• 新一代半導(dǎo)體技術(shù)-真空鍍膜技術(shù)的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

  摘要：隨著可持續(xù)發(fā)展觀的深入普及和社會經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，經(jīng)濟(jì)與環(huán)保協(xié)同發(fā)展成為當(dāng)下企業(yè)發(fā)展和科技創(chuàng)新的主要趨勢。傳統(tǒng)的通電鍍膜技術(shù)會產(chǎn)生較大的污染，且鍍膜質(zhì)量不高，經(jīng)濟(jì)效益低下，已逐漸退出歷史舞臺，取而代之的是技術(shù)更加先進(jìn)、鍍膜質(zhì)量更加優(yōu)秀的真空鍍膜技術(shù)。真空鍍膜技術(shù)始于20世紀(jì)30年代，當(dāng)前真空鍍膜技術(shù)已從實驗室走向了工廠，實現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)，在光伏、建筑、裝飾、通訊、照明等工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用

• 化學(xué)氣相沉積設(shè)備（CVD）-小型管式LPCVD設(shè)備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學(xué)研究、實踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規(guī)則形狀的散片、φ2～4

• 創(chuàng)芯未來 鵬城半導(dǎo)體亮相第二屆碳基半導(dǎo)體材料與器件產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇

  半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)高、進(jìn)步快，一代產(chǎn)品需要一代工藝，而一代工藝需要一代設(shè)備。**半導(dǎo)體設(shè)備市場集中度高，主要有美日荷廠商壟斷，國內(nèi)自給率僅有 5%左右，國產(chǎn)替代空間巨大。尤其是隨著摩爾定律趨近極限，半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)進(jìn)步放緩，國內(nèi)廠商與****技術(shù)差距正在逐漸縮短，未來 3-5 年將是半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代黃金戰(zhàn)略機(jī)遇期。鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司作為一家半導(dǎo)體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造集一體的