鵬城半導體|HFCVD熱絲化學氣相沉積設備高性價比生產廠家臺風快訊

時間：2024-07-18

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
半導體制造及先進封裝持續升溫
得益于政策的有力支持、行業周期性的變化、創新驅動的增長以及國產替代的加速推進，從IC設計到晶圓制造、封裝測試，再到設備材料等多個細分領域，國產化率實現了顯著提升，標志著我國半導體產業正朝著自主可控的方向穩步邁進。半導體材料國產化率仍在進一步提升2025年，**半導體產能的年增長率將達到6.6%，每月3360萬片晶圓，而主流制程產能將實現6%的增長，達到每月1500萬片。相較于**制程，成熟制程的工
鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業發展論壇
世界范圍的信息化浪潮正帶來**網絡化、國家數字化、社會智能化的整體轉變，5G、人工智能、大數據和云計算等**技術的誕生和蓬勃發展，以及向生產生活各層面的深度滲透，較加速推動信息時代的快速發展。在世界數字化洶涌前行的背后，是硅基半導體芯片能的持續飛速提升，提供了存儲、運算、網絡、智能的多維度底層支撐，為數字升級、智能互聯打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限，硅基半導體芯
真空鍍膜行業發展趨勢，低耗能無污染先進技術
1、真空鍍膜行業技術水平及特點多功能磁控濺射儀（高真空磁控濺射鍍膜機）-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支，是指為了減少雜質的干擾，在高度真空環境下，通過物理或化學手段，將金屬、非金屬或化合物材料（膜材）轉換成氣態或等離子態，并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質（簡稱基材、基板或基片）表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后，可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程
創芯未來鵬城半導體亮相第四屆全球半導體產業博覽會（重慶）
6月帶著憧憬與期待，在重慶這片沃土上與我們相遇，未來，初心依舊。*四屆**半導體產業（重慶）博覽會（簡稱“GSIE 2022”），將于2022年6月29日-7月1日在重慶**博覽中心舉辦。鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱“鵬城半導體”）本次攜多功能磁控濺射儀解決方案、分子束外延薄膜生長設備（MBE）解決方案、熱絲CVD金剛石解決方案等多個解決方案亮相本次展會。一起來先讀為快吧。多功能磁控濺射儀