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*四屆**半導體產業(重慶)博覽會圓滿落幕


    鵬城半導體技術(深圳)有限公司專注于PVD鍍膜設備,化學氣相沉積,金剛石涂層等

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  • 【喜訊】鵬城半導體榮獲誠信企業及AAA級企業信用等級證書

    良好的信用是企業的核*心*競*爭力,是企業的“金名片”,較是客戶的“安心石”2022年12月,鵬城半導體技術(深圳)有限公司(簡稱:公司簡介 - 鵬城半導體技術(深圳)有限公司)企業信用等級評價認證,經權*威*機構評審,鵬城半導體喜獲“AAA*級企業信用等級”證書及“AAA信用企業等級”牌匾。信用等級認證采用國*際通行的“四等十級制”評級等級,分為:AAA、AA、A、BBB等十個級別。AAA級是企

  • 真空鍍膜行業發展趨勢,低耗能無污染先進技術

    1、真空鍍膜行業技術水平及特點多功能磁控濺射儀(高真空磁控濺射鍍膜機)-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程

  • 化學氣相沉積設備(CVD)-小型管式LPCVD設備

    LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化,方便實驗室操作和使用,大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片。基片放置方式:配置三種基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型:不規則形狀的散片、φ2~4

  • 國華三新—鵬城半導體簽約儀式在深圳舉行

    2022年1月17日, 國華三新與鵬城半導體在深圳舉行簽約儀式, 國華投資吳葉菲總經理等一行出席本次簽約儀式;鵬城半導體代表吳向方先生等一行出席本次簽約儀式。關于我們鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)、北京琨騰科技有限公司以及有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點,尋求創新**與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控

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