CITE2023 |鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相，備受矚目

時間：2023-04-13

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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詞條說明
PVD技術在半導體器件中的應用
在快速發展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發光二管(OLED)
鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業發展論壇
世界范圍的信息化浪潮正帶來**網絡化、國家數字化、社會智能化的整體轉變，5G、人工智能、大數據和云計算等**技術的誕生和蓬勃發展，以及向生產生活各層面的深度滲透，較加速推動信息時代的快速發展。在世界數字化洶涌前行的背后，是硅基半導體芯片能的持續飛速提升，提供了存儲、運算、網絡、智能的多維度底層支撐，為數字升級、智能互聯打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限，硅基半導體芯
PVD真空鍍膜設備行業分析
一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損
半導體制造及先進封裝持續升溫
得益于政策的有力支持、行業周期性的變化、創新驅動的增長以及國產替代的加速推進，從IC設計到晶圓制造、封裝測試，再到設備材料等多個細分領域，國產化率實現了顯著提升，標志著我國半導體產業正朝著自主可控的方向穩步邁進。半導體材料國產化率仍在進一步提升2025年，**半導體產能的年增長率將達到6.6%，每月3360萬片晶圓，而主流制程產能將實現6%的增長，達到每月1500萬片。相較于**制程，成熟制程的工