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1000度高溫真空探針臺,主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域,具有以下用途:1. 半導體器件測試與表征:用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2. 材料性能表征:研究和測試材料在不同溫度下的電學、磁學、光學等性能,以及材料的穩定性和可靠性。3. 納米結構與納米器件研究:在納米尺度上測量納米結構與納米器件的電學性能,及其在高溫真空環境中的穩定性和
掃描探針顯微鏡是目**種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應用于物理、化學、生物、醫學等基礎研究領域,還在微納制造和微電子等的應用研究領域中發揮著越來越重要的作用。然而,目前商業化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對單一,難以實現一些較為復雜的實驗及檢測功能。? ? 例如,在特殊環境下(如真空或輻射環境)的微觀磨損實驗中,若采用單一探針模式,在完成磨損實驗后,需
小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產生的二次電子會受到電場和磁場作用,產生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌跡近似一條擺線。若為環形磁場,則電子就
1、樣品臺旋轉,多樣品同時鍍膜時,鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能,剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質,擋板可以保護樣品,提高薄膜質量3、帶有水冷系統,可以長時間濺射鍍膜,厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射,提高附著力,濺射速率快,比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達到1-2納米每秒,5、不但可以電鏡制樣,還可以制作金屬電極。6、可擴展膜厚監測,監測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要
公司名: 鄭州科探儀器設備有限公司
聯系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區鄭州**產業開發區西三環路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網 址: zzketan.b2b168.com
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