真空BNC連接器產品優(yōu)勢

時間：2023-11-11

作者：鄭州科探儀器設備有限公司

詞條
詞條說明
基于真空探針臺的紅外焦平面自動測試的關鍵技術研究
紅外熱成像技術由于自身各種優(yōu)勢在軍事領域和民用領域有著廣闊的應用前景,因此備受各國重視,競相發(fā)展相關技術。? ? 由于國外對紅外熱成像技術的研究比較早,而我國在紅外熱成像技術領域起步較晚,所以差距很大。近年來我國在紅外熱成像技術的相關領域**了一些進展,但很多方面還是遠遠落后于世界水平。? ? 因此,還需要加快紅外熱成像技術的研究。本課題以加快紅外熱成像技術
磁控濺射沉積系統(tǒng)設計
?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機
快速退火爐系統(tǒng)設計與實現(xiàn)
快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產工藝過程中的關鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質的、淺結制作、生長高質量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術研究,對國內開發(fā)和研究具有自主知識產權的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應用**。? ? ? 本文針對現(xiàn)代半導體器件退火工藝
小型金屬濺射鍍膜機優(yōu)點
?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢1、樣品臺旋轉，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋板可以保護樣品，提高薄膜質量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些