鵬城半導體攜TGV/TSV/TMV技術亮相慕尼黑上海光博會

時間：2025-03-10

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
國華三新—鵬城半導體簽約儀式在深圳舉行
2022年1月17日, 國華三新與鵬城半導體在深圳舉行簽約儀式, 國華投資吳葉菲總經理等一行出席本次簽約儀式；鵬城半導體代表吳向方先生等一行出席本次簽約儀式。關于我們鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）、北京琨騰科技有限公司以及有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點，尋求創新**與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控
PVD技術在半導體器件中的應用
在快速發展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發光二管(OLED)
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4
PVD真空鍍膜設備行業分析
一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損