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雙工位臥式真空爐 ? 青島福潤德微電子設備有限公司 ? 目??錄 ? 一、??????????設 備 特 點 二、??????????設 備 結 構
擴散爐由控制系統、進出舟系統、爐體加熱系統和氣體控制系統等組成。 控制系統 控制部分包括:溫控器、功率部件、**溫保護部件、系統控制。 系統控制部分有四個獨立的計算機控制單元,分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分,是擴散/氧化系統的控制中心。 擴散爐網絡控制 輔助控制系統,包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。 較先進的擴散爐控制系統均已更新或升級到微
?單管氧化爐技術方案 ? ????????????? (單管程序氧化爐) ? ?????????????&n
? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD(等離子增強化學氣相淀積)設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100~600oC可調),特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化,用以提高器件和集成電路可靠性。目前,它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點: 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機(易漏大氣而
公司名: 青島福潤德微電子設備有限公司
聯系人: 顏
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地 址: 山東青島城陽區青島市城陽區北萬工業園
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