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詞條說明
新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面,這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成
產品優勢:1、耐化學腐蝕氧化鋯、氧化鋁陶瓷有很強的耐化學腐蝕的特性!2、耐摔性首家具備這個技術, 陶瓷棒從高空跌落完好無損,耐摔!3、超耐磨氧化鋯、氧化鋁陶瓷結構產品具有很強的耐磨性!4、耐高溫氧化鋯、氧化鋁陶瓷可耐高溫1600度以上!5、防靜電氧化鋯、氧化鋁陶瓷為防靜電材料, 適用無塵區域!6、防火性氧化鋯、氧化鋁陶瓷對燃燒的火焰有極強防護能力!
目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。鑄造法:將一定成分配比的合金原料熔煉,再將合金溶液澆注于模具中,形成鑄錠,最后經機械加工制成靶材,鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等,其優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低,密度高,可大型化;缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。粉末冶金法:將一定成分
貴金屬靶材是什么?有什么?選用精練、融化煅造、壓延加工或粉未冶金工業加工工藝生產的半導體元器件、紀錄新聞媒體顯示器件等的布線和塑料薄膜的貴金屬以及合金的濺射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用以電子器件和規模性電子器件,CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用以磁記錄。輕貴金屬銀、釕、銠、鈀的統稱。相對密度在10~12/cm中間。重貴金屬金、鋨、銥、鉑的統稱,相對密度在19~22g/cm3中間。
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