導體靶材行業市場、產品種類及技術壁壘分析

時間：2019-12-17作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：713

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  詞條說明

• 工程服務

  售前服務：專家級設計團隊為您解決項目建設所需的鍍膜材料方案設計和咨詢工作，幫您節約投資和降低能耗；過程服務：您交付的任務，我們的專業管理團隊按照ISO9001的質量管理體系，做好每一個細節;售后服務：售后團隊技術精湛，經驗豐富。

• 靶材的制作方法、分類及應用

  現階段靶材的制取關鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法：將一定成份配制的合金原材料熔煉，再將合金飽和溶液澆筑于模貝中，產生澆鑄，最終經機械加工制造做成靶材，鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見的熔煉方式 有真空泵磁感應熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負電子熔煉等，其特點是靶材殘渣含量（尤其是汽體殘渣含量）低，相對密度高，可進口替代；缺陷是對溶點和相對密度相距過大的二種或兩種以上金屬材料，一般熔煉法難以獲得成份

• 淺談半導體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

• 噴涂鉻管靶

  噴涂鉻管靶成型工藝：熱等靜壓、噴涂用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜常規尺寸：ID125xOD145~155xL?（mm）