KRI 離子源用于離子束拋光機

時間：2024-01-10

作者：伯東企業（上海）有限公司

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KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用
上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污
模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統
模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統在燃料電池中, 氫氣發生電化學反應以產生電力并為汽車提供動力. 燃料電池發電機, 儲氣罐和配電管線需要密封, 防止發生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產需求, 通常使用自動化真空箱檢漏系統. 上海伯東德國 Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動氦檢漏系統的核心部件, 提供可靠, 可重復的泄露檢測, 滿足氫能行業真空
HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環境, 易于維護
說到真空閥門, HVA 是繞不開的, HVA 真空閥門是行業的者. HVA真空閥門包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門中 71000 系列閥門, 憑借其在 HVA 閥門中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數.?HVA?真空閥門?71000 系列由堅固的不繡
KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現可見光區（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM